कल, सभी घरेलू साइटों ने यह खबर फैला दी कि रूस में माइक्रोन ने माइक्रोकैरिस्कुट के उत्पादन के लिए 65 एनएम (या यहां तक ​​कि "रूस में पहले 65-एनएम माइक्रो-सर्किट जारी किए गए थे") के मानकों के अनुसार एक तकनीक विकसित की थी। माइक्रोन पहले STMicroelectronics से 90nm तकनीक लाइसेंस प्राप्त था। आइए यह समझने के लिए थोड़ा और विस्तृत प्रयास करें कि चीजें कैसे चल रही हैं।

माइक्रोन ने इस बार आश्चर्यजनक रूप से बहुत सारी जानकारी प्रकाशित की। तस्वीरों में एक परीक्षण ट्रांजिस्टर और एक इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोप द्वारा ली गई तस्वीरों का अंकन है। कटौती के तहत - आइए देखें कि यह कैसे किया जा सकता है और इंटेल 65nm के साथ तुलना करें।

प्रक्रिया तुलना

मैक्रोन ने अपनी प्रक्रिया प्रौद्योगिकी के मापदंडों के साथ एक तालिका प्रकाशित की। तुलना के लिए, मैंने Intel 65nm प्रक्रिया प्रौद्योगिकी जोड़ी:

प्रौद्योगिकी	माइक्रोन 65nm	माइक्रोन 90nm	इंटेल 65nm
गेट की लंबाई	45nm फोटो में 54nm	65nm	35-38nm + SiGe तनाव
गेट ऑक्साइड की मोटाई (विद्युत)	2.2nm (n) / 2.2nm (पी)	2.2nm (n) / 2.2nm (पी)	1.2nm SiON
संबंध रखना	9-Cu + 1-Al	7-Cu + 1-Al	8-Cu
धातु 1 पिच	0.18μm	0.24μm	0.21μm
अंतर-स्तरीय ढांकता हुआ	के = 2.9	के = 2.9	के = 2.9

एम 1 पिच (पहले धातुकरण स्तर का चरण) कुछ संदेह पैदा करता है - जैसा कि धातु पिच एम 1 घटकर 0.2-0.3 माइक्रोन (65 एनएम तकनीक के लिए) से कम हो जाता है, आरसी निरंतरता में वृद्धि के कारण चिप की गति तेजी से गिरती है, क्योंकि इंटेल ने इसे 0.21 से नीचे नहीं घटाया -0.22mkm। एक और याद दिलाता है कि इंटरकनेक्ट्स माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक की प्रगति पर मुख्य ब्रेक हैं।

शटर की लंबाई और गेट ढांकता हुआ की मोटाई इंगित करती है कि यह एलपी प्रक्रिया तकनीक है - कम खपत और कम गति के साथ। इसलिए माइक्रोन पर पहले Core2Duo के समान प्रोसेसर बनाने का कोई तरीका नहीं है, लेकिन एलपी तकनीकी प्रक्रियाओं के लिए बहुत सारे अनुप्रयोग हैं।

धातुओं की संख्या आपको किसी भी जटिलता के प्रोसेसर को लागू करने की अनुमति देती है।

65nm की खोज में

जैसा कि हम याद करते हैं , ऑप्टिकल फोटोलिथोग्राफी का संकल्प रेले मानदंड का पालन करता है:


फिलहाल, माइक्रोन (एएसएमएल पीएएस / 1150 सी स्कैनर) पर सबसे उन्नत फोटोलिथोग्राफी यूनिट एनए = 0.75 है और यह 193 एनएम के तरंग दैर्ध्य पर काम करता है। पैरामीटर k उपयोग किए गए "ट्रिक्स" का गुणक है, जो प्राप्त रिज़ॉल्यूशन को बेहतर बनाने की अनुमति देता है। k चाल के बिना फोटोलिथोग्राफी के लिए - 0.4। मिक्रोनोव्स्की 90nm के मामले में - k पहले से ही 0.35 था। एक ही स्कैनर के साथ एक ईमानदार 65nm प्राप्त करने के लिए, k को किसी तरह 0.25 तक कम करने की आवश्यकता होगी (यानी बहुत सारे ट्रिक्स जोड़ें)।

हालांकि, प्रेस रिलीज से शब्द दिए गए ("फोटोथ्रोग्राफी के ऑप्टिकल सुधार करने के लिए विशेष एल्गोरिदम विकसित किए गए"), परीक्षण ट्रांजिस्टर की सामान्य शास्त्रीय शास्त्रीय टोपोलॉजी ("एक आयामी" संरचनाओं का उपयोग किए बिना) और फोटो में शटर की लंबाई (54nm) - फिलहाल यह वर्तमान जैसा दिखता है पहले परीक्षण के लिए एक छोटे से गेट के साथ अतिरिक्त चाल के बिना उपकरण बनाया ट्रांजिस्टर (यह तेजी से अस्वीकार का प्रतिशत बढ़ाता है, लेकिन परीक्षण ट्रांजिस्टर के लिए स्वीकार्य है) + प्रक्रिया के नए तकनीकी चरणों के बारे में काम किया, के बारे में 90nm से splicing।

वे कहते हैं कि मार्च 2014 में एक नया स्कैनर मैक्रोन के लिए इंतजार कर रहा है - और यह अतिरिक्त चाल के बिना 65nm को बाहर कर देगा, और चाल के साथ - और अधिक सूक्ष्म तकनीकी प्रक्रियाएं (45nm, कम?)। फिर, वर्ष के अंत तक (या 2015 में भी), 65nm तकनीक का उपयोग करने वाले पहले पूर्ण-विकसित माइक्रोकिरिकेट को जारी किया जाएगा। उत्पादन की मात्रा प्रति माह लगभग 500 से 200 मिमी वेफर्स होने की उम्मीद है - यह व्यावहारिक रूप से गारंटी देता है कि उत्पादन केवल राज्य के लिए बहुत महंगा और सस्ती होगा।

अंत में संभव ट्रिक्स के बारे में

65nm वर्तमान माइक्रोन उपकरणों पर प्राप्त किया जा सकता है। यह याद रखना पर्याप्त है कि 2007 में कैसे इंटेल ने 0.93 के एपर्चर के साथ स्कैनर का उपयोग करके "ड्राई" फोटोलिथोग्राफी पर 45nm प्रक्रिया की थी (मैं 0.75 मैक्रॉन की याद दिलाता हूं): महत्वपूर्ण परतों को 2 सेटों में उजागर किया गया था: पहले सेट में कई क्षैतिज रेखाएं उजागर हुई थीं (द्विध्रुवीय रोशनी का उपयोग करके) ध्रुवीकरण - इस तरह आप एक उच्च रिज़ॉल्यूशन प्राप्त कर सकते हैं, लेकिन केवल एक अक्ष के साथ)। फिर, दूसरे एक्सपोज़र द्वारा, लाइनों को वांछित आकार के टुकड़ों में काट दिया गया। फोटो में परिणाम। दरअसल, 32nm का रेजोल्यूशन एक समान तरीके से प्राप्त होता है।

यह दृष्टिकोण हमें k = 0.21 प्राप्त करने की अनुमति देता है, और मिक्रोनोव्स्की स्कैनर के लिए यह हमें 55nm प्रक्रिया प्रौद्योगिकी प्राप्त करने की अनुमति देगा। लेकिन निश्चित रूप से काम की गुंजाइश बहुत प्रभावशाली होगी।

सारांश

• "रूस में बने 65nm माइक्रोक्रेसीप्स" के बारे में बात करना समय से पहले है - ये मौजूदा उपकरणों पर एकल परीक्षण ट्रांजिस्टर हैं।
• एलपी प्रौद्योगिकी (लंबी शटर लंबाई, मोटा गेट इन्सुलेटर) - कम बिजली की खपत और कम गति के साथ, आपको इंटेल 65nm (पहला Core2Duo) के समान प्रोसेसर की उम्मीद नहीं करनी चाहिए।
• नए उपकरणों (मुख्य रूप से एक स्कैनर) के साथ, जिसे इस वर्ष माइक्रोन पर काम करना चाहिए, 65nm तकनीक और पतले दोनों संभव होंगे।
• उत्पादन की बहुत कम मात्रा (प्रति माह 500 प्लेट) के कारण, प्लेट की लागत मूल्य काफी अधिक होने का वादा करता है, बाजार प्रतिस्पर्धी 65nm नागरिक उत्पादों के साथ भरने में सक्षम नहीं होगा। लेकिन इसकी आवश्यकता नहीं थी।

संदर्भ

माइक्रोन प्रेस रिलीज
कुछ अतिरिक्त के साथ CNews समाचार
इंटेल 65nm प्रौद्योगिकी अवलोकन
प्रौद्योगिकियों के एक पूरे समूह की तुलना चार्ट